一般セッション(口頭講演)
8 プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマナノテクノロジー
10:00 〜 10:15
〇鎌滝 晋礼1、奥永 冴京1、岩本 亮介1、富田 健太郎2、Pan Yiming2、山下 大輔1、板垣 奈穂1、古閑 一憲1,3、白谷 正治1 (1.九大シス情、2.北大院工、3.自然科学研究機構)
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10:15 〜 10:30
〇野村 俊光1、木元 健太1、垣内 弘章1、安武 潔1、大参 宏昌1 (1.阪大院工)
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10:30 〜 10:45
〇太田 遼至1、平井 凱斗1、道垣内 将司2、神原 淳1 (1.東大院工、2.島根県産業技術センター)
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10:45 〜 11:00
〇(M1)古川 颯大1、明石 恵太1、長瀬 有理奈1、田中 康規1、中野 裕介1、石島 達夫1、末安 志織2、渡邉 周2、中村 圭太郎2 (1.金沢大自然、2.日清製粉)
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11:00 〜 11:15
〇古閑 一憲1,2、黄 成和1、Hao Yuan1、鎌滝 晋礼1、奥村 賢直1、板垣 奈穂1、白谷 正治1 (1.九大シス情、2.自然科学研究機構)
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11:15 〜 11:30
〇胡 留剛1、堤 隆嘉2、蕭 世男2、近藤 博基2、石川 健治2、関根 誠2、堀 勝2 (1.名大院工、2.名大低温プラズマ)
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11:30 〜 11:45
〇齋藤 敦史1,2、野崎 智洋1 (1.東工大、2.AGC)
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11:45 〜 12:00
〇小川 大輔1、守谷（森棟） せいら1、中村 圭二1 (1.中部大学)
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