一般セッション(口頭講演)
[17a-Z21-1~6] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長
09:00 〜 09:15
〇舩木 修平1、 長瀬 侑弥1、 山田 容士1、 土井 俊哉2 (1.島根大自然、2.京大院エネ科)
09:15 〜 09:30
〇川山 巌1、 太田 圭祐1、 濱田 剛1、 一瀬 中2、 土井 俊哉1 (1.京大院エネ科、2.電中研)
09:30 〜 09:45
〇金泉 莉大1、 元木 貴則1、 小塩 剛史1、 瀬川 雄大1、 小澤 美弥子1、 中村 新一2、 本田 元気3、 永石 竜起3、 下山 淳一1 (1.青学大理工、2.TEP、3.住友電工)
09:45 〜 10:00
〇尾崎 壽紀1、 柏原 卓弥1、 岡田 達典2、 淡路 智2、 掛谷 一弘3、 千星 聡2、 岡崎 宏之4、 越川 博4、 山本 春也4、 八巻 徹也4、 末吉 哲郎5、 坂根 仁6 (1.関学大理工、2.東北大金研、3.京大工、4.量研機構、5.熊大工、6.住重アテックス(株))
10:00 〜 10:15
〇Wenlei Shan1、 Shohei Ezaki1、 Akihira Miyachi1、 Tomonori Tamura1 (1.NAOJ)
10:15 〜 10:30
〇土井 俊哉1、 神部 広翔1、 川山 巌1、 岩中 拓夢1,2、 楠 敏明2、 一瀬 中3 (1.京大、2.日立、3.電中研)