2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[16a-Z13-1~12] 13.3 絶縁膜技術

2021年3月16日(火) 09:00 〜 12:15 Z13 (Z13)

高木 信一(東大)

11:45 〜 12:00

[16a-Z13-11] 高圧水蒸気中で製膜した陽極シリコン酸化膜 -印加電圧依存性-

堅田 卓弥1、八ッ橋 拓真1、呉 研1、高橋 芳浩1 (1.日大理工)

キーワード:陽極酸化法、高圧水蒸気中、シリコン酸化膜

高圧水蒸気中での陽極酸化プロセス中に流れる電流を調査したところ,高圧力・高電圧時に瞬間的に大きな電流が流れることを確認した.その異常電流が流れる条件下で製膜された酸化膜は電気的特性が劣ることが分かった.