2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[16a-Z13-1~12] 13.3 絶縁膜技術

2021年3月16日(火) 09:00 〜 12:15 Z13 (Z13)

高木 信一(東大)

09:15 〜 09:30

[16a-Z13-2] HCl前洗浄がAl2O3/GaN界面特性に与える影響

〇(M1)長井 大誠1、田岡 紀之1、大田 晃生1、池田 弥央1、牧原 克典1、宮﨑 誠一1 (1.名大院工)

キーワード:界面特性