2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[16a-Z27-1~9] 15.4 III-V族窒化物結晶

2021年3月16日(火) 09:00 〜 11:30 Z27 (Z27)

井村 将隆(物材機構)、久志本 真希(名大)

09:00 〜 09:15

[16a-Z27-1] 表面活性化接合を用いた面方位変調GaNテンプレートの作製と組成変調InGaN量子井戸の有機金属気相成長

田辺 凌1、吉田 新1、安田 悠馬1、上向井 正裕1、谷川 智之1、片山 竜二1 (1.阪大院工)

キーワード:表面活性化接合、マイクロLED

新規マイクロLED構造の提案を行う。窒化物半導体は成長面によってInの取り込み効率が異なるため、成長面の異なる領域が面内に混在したGaN薄膜上にInGaNを成長させると、赤、緑、青色の発光色を持つInGaN量子井戸を一度に成長できる可能性がある。本研究では、表面活性化接合を用いた面方位の異なるGaN薄膜を同一基板上に積層した面方位変調GaNテンプレートの作製プロセスとInGaN/GaN多重量子井戸の発光波長の成長面方位依存性について報告する。