2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[16a-Z33-1~10] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2021年3月16日(火) 09:00 〜 12:00 Z33 (Z33)

島 久(産総研)、福地 厚(北大)

11:15 〜 11:30

[16a-Z33-8] 低周波ノイズ分光法を用いた抵抗変化メモリの電子状態評価

〇(M1)菅原 広太1,2、菅 洋志1,2、内藤 泰久1、島 久1、秋永 広幸1 (1.産総研、2.千葉工大)

キーワード:抵抗変化メモリ

抵抗変化メモリは抵抗変化の起源が,酸素イオンの移動を伴うことから,変化する抵抗値を正確に制御することが課題となっている.本研究では,低周波ノイズ分光法を用いて,温度に対する様々なノイズのピーク強度を求め,アレニウスプロットでフィッティングし,活性化エネルギーを求めた.活性化エネルギーの値から,抵抗変化に寄与している電子は酸素欠損由来のトラップの影響を受けていると考えられた.