2:00 PM - 2:15 PM
△ [16p-Z20-3] Features of NiOx films sputtered by four targets facing sputtering cathode
Keywords:Perovskite solar cell, NiOx, Hole transport layer
低ダメージスパッタ成膜源である四面式対向ターゲットマグネトロンスパッタカソード(以下、RAMカソード)と自社開発したNiOx(亜酸化Ni)ターゲットを使用してNiOxをガラス基板へ無加熱成膜し、単一膜の基本特性を評価した。
発表当日は、透過スペクトル及びホール測定も加味した評価結果を基に、RAMカソードでスパッタ成膜したNiOx膜の特性を報告する。
発表当日は、透過スペクトル及びホール測定も加味した評価結果を基に、RAMカソードでスパッタ成膜したNiOx膜の特性を報告する。