2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[16p-Z27-1~15] 15.4 III-V族窒化物結晶

2021年3月16日(火) 13:00 〜 17:15 Z27 (Z27)

岩谷 素顕(名城大)、片山 竜二(阪大)、谷川 智之(阪大)

15:00 〜 15:15

[16p-Z27-8] マクロステップを有するAlGaNに形成される離散的AlNモル分率(3)

長澤 陽祐1、小島 一信2、平野 光1、迫 秀樹3、橋本 愛3、杉江 隆一3、一本松 正道1、本田 善央4、天野 浩4、赤﨑 勇5、秩父 重英2 (1.創光科学、2.東北大IMRAM、3.東レリサーチセンタ、4.名大IMaSS、5.名城大理工)

キーワード:AlGaN、深紫外、発光ダイオード

c(0001)面サファイア基板(m[1-100]軸方向1.0°-miscut)を用いて,マクロステップを有するAlN上に成長したn-AlaGa1-aN (a~0.6, 0.7)上に形成された凹凸構造のあるAlbGa1-bN量子井戸(成長レシピからの推定値b~0.35, 0.45)からの発光スペクトルの分析を行った.QWには各々Al1/3Ga2/3Nと Al1/2Ga1/2N が生成していると解釈された.