2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[17a-Z27-1~9] 15.4 III-V族窒化物結晶

2021年3月17日(水) 09:00 〜 11:30 Z27 (Z27)

岡田 成仁(山口大)、今西 正幸(阪大)

10:15 〜 10:30

[17a-Z27-5] OVPE-GaN(高濃度酸素添加GaN)結晶黒色化の起源

隅 智亮1、滝野 淳一1、岡山 芳央1、北本 啓2、宇佐美 茂佳2、今西 正幸2、森 勇介2 (1.パナソニック株式会社、2.大阪大学)

キーワード:窒化ガリウム、気相成長、着色結晶

縦型GaNパワーデバイスの電力損失削減のために、低抵抗n型GaN基板の作製がOやSiをドーピングすることで試みられている。一方でドーピング濃度を増加させると結晶が黒色に着色していた。今回、OVPE法により高キャリア濃度の様々な着色の結晶が得られ、着色の原因を突き止めるために、結晶の特性の分析を行った。吸収スペクトル、バンドテイル発生の理論を基に検討を行ったところ、Ga空孔欠陥や、複合欠陥が原因であると考えられる。