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[18a-P03-3] 走査透過型電子顕微鏡を用いた高L10規則度を有するFePdエピタキシャル膜の極微構造観察
キーワード:FePd、走査透過型電子顕微鏡
高L10規則度(~0.9)を有するFePdエピタキシャル膜をスパッタ法によりSrTiO3基板上に作製し、走査透過型電子顕微鏡(STEM)により断面の極微構造を観察した。その結果、高いL10規則度を有している多くの領域と合わせて、膜表面から斜めに転位、およびSrTiO3基板とFePd界面ではc軸が面ない方向を向いている界面層が1~2単位格子の厚さ分だけ形成されている事がわかった。このような極微構造の乱れは高L10規則度のFePd膜において、低い残留磁化比の原因となっている事が示唆された。