2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.1 X線技術

[18a-Z14-1~11] 7.1 X線技術

2021年3月18日(木) 09:00 〜 12:15 Z14 (Z14)

佐々木 明(量研機構)、豊田 光紀(東京工芸大)

09:00 〜 09:15

[18a-Z14-1] EUV光源コレクターミラー保護膜における表面劣化の抑制

本田 能之1、永井 伸治1、森田 昌幸1、安藤 正彦1、松田 晃史2、吉本 護2 (1.ギガフォトン、2.東工大)

キーワード:EUV光源

EUV光源における長寿命化の課題として、Mo/Si多層膜反射集光鏡の保護膜劣化によるEUV反射率の低下がある。本研究では、Mo/Si多層膜反射集光鏡における、非晶質TiO2保護膜の結晶化による劣化機構の解明と劣化抑制手法を検討した。保護膜とMo/Si多層膜の間にSiO2層の挿入を試みたところ、TiO2保護膜界面に生成された結晶核の成長を妨げると考えられる、明確な結晶化抑制効果を見出した。