9:15 AM - 9:30 AM
[18a-Z16-2] Advantages of 150 kV electron beam lithography for thick resist
Keywords:electron beam lithography, acceleration voltage, cross-sectional shape
本講演では電子ビームリソグラフィーにおける加速電圧に着目し,これがレジスト断面形状に与える影響について述べる.1600nm厚のPMMAレジストを用いた時,50kVと比較して100, 150kVでは垂直性が高いことがわかった.また,γ値が高いレジストを用いた時,同様の結果が得られることがわかった.さらに,これらの結果を電子散乱の軌跡と比較して考察を述べる.