[18a-Z16-1~8] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

△ [18a-Z16-8] 領域選択的な原子層堆積に向けた光硬化蒸着マスクのドライエッチング

〇宮島 千晶¹、伊東 駿也¹、中川 勝¹ (1.東北大多元研)

キーワード：ドライエッチング、原子層堆積、光ナノインプリント

原子層堆積 (ALD) は、機能材料のボトムアップ型製法の一つとして注目されている。我々は、無機基板表面と有機樹脂表面での成膜挙動の違いに着目し、光硬化樹脂を用いる光ナノインプリント法とALDとを組み合わせた領域選択的堆積方法を研究している。本発表では、ALD法に基づきアルミナを製膜した光硬化樹脂薄膜のドライエッチングによる除去に成功したことを報告する。