2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[18a-Z17-1~11] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2021年3月18日(木) 09:00 〜 12:00 Z17 (Z17)

竹中 弘祐(阪大)、竹田 圭吾(名城大)

09:45 〜 10:00

[18a-Z17-4] 大気圧プラズマ合成によるダイヤモンド状炭素膜の高硬度化の研究

西村 涼汰1、三田村 啓嵩1、吉木 宏之1、荒船 博之1 (1.鶴岡工業高等専門学校)

キーワード:大気圧マイクロプラズマ、ダイヤモンド状炭素膜、プラズマCVD

金属パイプ電極を用いた大気圧プラズマCVD法によりDLC膜の合成を行い、H2比率の増加により膜の高硬度化が生じ、最大 19.2 GPaの膜硬度を得た。H2比率 10 %で合成した場合、AFM表面観察により、膜の平均粗さは±0.15 nmと、高い表面均一性を有することがわかった。