[18p-Z03-1~10] EUV・軟X線イメージングの描く未来

[18p-Z03-6] EUVマスクブランクス検査装置における1200倍レビュー機能

〇武久 究¹、鈴木 智博¹、宮井 博基¹、楠瀬 治彦¹ (1.レーザーテック)

キーワード：EUV、フォトマスク、ブランクス

当社ではEUVマスクブランクスの位相欠陥を検出できる検査装置として、波長13.5 nmのアクティニック光源を用いたABICS E120を製品化している。本製品では、検出した微小な欠陥を1200倍に拡大して欠陥形状や欠陥座標を正確に計測できるレビュー機能を有している。講演では、レビュー光学系の構成、及びレビュー機能の効果などを説明する予定。