[18p-Z15-1~15] 6.4 Thin films and New materials

△ [18p-Z15-2] Light Scattering of Low Refractive Index SiO₂Optical Thin Films Deposited by Sputtering and Electron Beam Evaporation Part 3

〇(M1)Taisei Wakamiya¹, Shigeharu Matsumoto², Hiroshi Murotani¹ (1.Tokai Univ., 2.SHINCRON CO.LTD.)

Keywords:optical thin film, light scattering

現在，実用されている多くの低屈折率光学薄膜は，膜に微細構造をもたせることで有効屈折率を下げることにより，膜の低屈折率化を実現している．本研究室では，成膜時に圧力が大きく異なる真空蒸着法とスパッタリング法を同一真空容器内に設置して稼働させる複合成膜手法を開発し，SiO₂光学薄膜の低屈折化に成功している．複合成膜手法では膜の構造がポーラスになることで低屈折率化を実現しているが，膜構造に起因した高密度の膜には無い光散乱特性が発現することが懸念される．本研究では，複合成膜手法のスパッタ出力を変化させることで，低屈折率SiO₂光学薄膜のスパッタ出力と光散乱率の関係性を調査するとともに，最適なスパッタ出力を検討することを目的とする．