The 68th JSAP Spring Meeting 2021

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[18p-Z15-1~15] 6.4 Thin films and New materials

Thu. Mar 18, 2021 1:30 PM - 5:30 PM Z15 (Z15)

Tetsuo Tsuchiya(AIST), Hiroaki Nishikawa(Kindai Univ.)

2:00 PM - 2:15 PM

[18p-Z15-3] Hydrophilicity evaluation of low refractive index SiO2 Optical Thin Films by Electron Beam and Sputtering Evaporation

〇(B)Mutsuki Ito1, Shigeharu Matsumoto2, Hiroshi Murotani1 (1.Tokai Univ., 2.SHINCRON Co.,Ltd.)

Keywords:optical thin film, hydrophilicity

本研究室では,真空蒸着法とスパッタリング法を同一真空容器内に設置して稼働させる複合成膜手法を開発し,SiO2光学薄膜の低屈折率化に成功している.複合成膜手法では膜の構造が多孔質になることで低屈折率を実現しているため,水分子の吸着サイト増大につながり,高い親水性が期待できる.本研究では,通常蒸着と複合成膜手法により成膜されたSiO2光学薄膜の膜構造の違いによる親水性の評価を目的とする.