[18p-Z17-1~20] 8.1 Plasma production and diagnostics

[18p-Z17-10] Measurement of Influence of Input Power on Fundamental Properties of Tetramethylsilane Plasmas for Deposition of Si-containing DLC Films

〇Yoshiaki Watanabe¹, Shun Suzuki², Koichi Ishii², Akinori Oda², Takayuki Ohta³, Hiroyuki Kousaka⁴ (1.Innovation Science, 2.Chiba Inst. Technol., 3.Meijo Univ., 4.Gifu Univ.)

Keywords:QMS, EQP, DLC

ダイヤモンドライクカーボン（以下DLC）膜は，高硬度や低摩擦性などの特性を有しており，これらの特性を利用して機械部品や切削工具などのコーティングなど様々な分野に利用されている．このDLC 膜の中でも，特にSi を含んだDLC 膜であるSi-DLC 膜は，従来のDLC 膜に比べさらに低い摩擦係数を実現できることが報告されており，低摩擦性が強く要求される自動車部品などの摺動部への応用が期待されている．そのため，TMS プラズマの基礎特性やTMS プラズマ特性とSi-DLC 膜におけるSi 含有率の相関関係の理解は重要である．本研究では，不活性ガスで希釈されたTMS ガスを用いて容量結合型RF 低圧プラズマを生成し，様々な投入電力時における電極に入射する炭化水素イオンおよびラジカルの入射量の測定を四重極質量分析装置を用いて行ったので，その結果について報告する．