[19a-P02-1~9] 8 プラズマエレクトロニクス(ポスター)

[19a-P02-7] プラズマプロセスによる水素脆性防止膜の作製と評価IV

〇川崎 仁晴¹、大島 多美子¹、柳生 義人¹、猪原 武士¹、西口 廣志¹ (1.佐世保高専)

キーワード：プラズマプロセス、薄膜作製、水素ぜい化

炭素鋼などの安価な材料で水素利用機器をつくり，表面のみに水素脆性を持つ薄膜をプラズマプロセスを用いてコーティングした。結果から、20～30μｍの均一な薄膜が作製されていることがわかった。また、水素浸漬チャージ法で水素を浸漬チャージさせた後、加熱によって素材から脱離した水素量を観測した結果、基板界面に水素がトラップされていることがわかった。