[19a-Z22-1~11] 3.13 Semiconductor optical devices

[19a-Z22-1] Titanium Oxide Thin Film Formed by Sputtering with Argon/Hydrogen Gas mixtures for n-type emitters of Crystalline Silicon Solar Cells

〇Takanori Shinozaki¹, Tetsuya Kaneko¹, Masao Isomura¹ (1.Tokai Univ)

Keywords:Crystalline Silicon Solar Cells, Titanium Oxide

結晶シリコン系太陽電池には高温プロセスが必要等作製プロセスに課題がある。本研究ではn型電導を持つ酸化チタン(TiO₂)をアルゴン水素混合ガススパッタにより作製することで導電性の向上を図り、比較的低温での形成が可能な結晶シリコン太陽電池のn型エミッターとして応用することを目的としている。本発表ではスパッタガスへの水素混合による導電性の改善とその安定性について評価すると伴に、デバイスの応用に向けた検討を行った。