[19p-Z07-1~9] 3.7 レーザープロセシング

[19p-Z07-4] 【注目講演】レーザーアブレーションによるITO透明導電性フィルムの微細加工と微細金属グリッド形成

〇渡辺 明¹、Rahman Ashiqur¹、駒田 めぐみ² (1.東北大多元研、2.住友化学)

キーワード：フレキシブル透明電極、レーザーアブレーション、ITO-金属グリッド　ハイブリッド構造

フレキシブル電子デバイスにおいては，曲げによっても導電性の劣化の起こらないフレキシブル透明電極が重要な構成要素となっている。本研究では，レーザーアブレーション法によって，ITO（酸化インジウムスズ）微小体と目視で透明に見えるような線幅（5μm以下）の微細な金属グリッドのハイブリッド構造からなる全面で導電性を有する曲げ耐性の高い透明導電膜形成のための新規プロセスに関する検討を行った。