2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.11 フォトニック構造・現象

[19p-Z10-1~15] 3.11 フォトニック構造・現象

2021年3月19日(金) 13:15 〜 17:30 Z10 (Z10)

石崎 賢司(京大)、滝口 雅人(NTT物性基礎研)

16:30 〜 16:45

[19p-Z10-12] フォトニック結晶上へのGe2Sb2Te5パターニングによるモードの変調

上村 高広1,2、千葉 永1,2、養田 大騎2、森竹 勇斗1,3、田中 祐輔2、納富 雅也1,2,4 (1.東工大理、2.NTT物性研、3.JSTさきがけ、4.NTT NPC)

キーワード:フォトニック結晶、相変化材料

相変化材料であるGe2Sb2Te5(GST)は、常温でアモルファス相と結晶相の2つの安定相を持ち、両相で大きな屈折率および消衰係数コントラストを持つ。Si細線やリング共振器等への、数μmスケールでのGST装荷およびモード変調は報告されているが、フォトニック結晶上への数百nmスケールでの装荷例はない。今回、フォトニック結晶共振器上に数百nm四方のGSTパタンを装荷し、相変化による共振モード波長とQ値の変化を確認したので、報告する。