2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[19p-Z15-1~11] 6.4 薄膜新材料

2021年3月19日(金) 13:30 〜 16:15 Z15 (Z15)

村岡 祐治(岡山大)、長谷川 哲也(東大)

15:30 〜 15:45

[19p-Z15-9] 3元系亜鉛窒化物半導体YZn3N3の第一原理計算による物性予測とスパッタリング薄膜の作製

菊地 諒介1,2、中村 透1、藏渕 孝浩1、金子 泰1、熊谷 悠2、大場 史康2 (1.パナソニック、2.東工大)

キーワード:窒化物、第一原理計算、スパッタリング

無毒かつ豊富に存在する元素で構成された3元系亜鉛窒化物は、優れた半導体特性を有する半導体として注目を集めている。本研究では、第一原理計算により、YZn3N3の最安定の結晶構造を探索し、その半導体物性を調べた。その結果、YZn3N3はScAl3C3型構造が最安定であり、直接遷移型のバンド構造と1.80 eVのバンドギャップを有することを明らかにした。さらに、共スパッタリング法により、計算と合致した結晶構造を有するScAl3C3型YZn3N3の成膜に成功した。