10:45 〜 11:00 [23a-A401-4] 新規液体原料(Zn(Cppm)2)によるZnO薄膜の原子層堆積 〇水谷 文一1、水井 誠1、高橋 伸尚1、井上 万里2、生田目 俊秀2 (1.高純度化学研究所、2.NIMS)