10:15 〜 10:30 △ [20a-A200-6] 反応性スパッタリングで成膜したMoS2の基板材料依存性 〇(D)金 明玉1,2、アーサン ナズムル2、謝 丹栄1,2、グプタ アビシェーク2,3、岡田 至崇1,2 (1.東大院工、2.東大先端研、3.東大院総合文化)