09:00 〜 09:15 [20a-B203-1] ミストCVD法によるCuxO膜の作製-管状炉内のミスト空間分布と膜構造との関連- 〇(M2)佐藤 亮汰1、横山 工純1、白井 肇1 (1.埼玉大理工研)