山本洋揮

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発表者・著者、共著者

2022年9月20日(火) 09:00 〜 12:30 C101 (C101)

一般セッション(口頭講演)
| 7 ビーム応用
| 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[20a-C101-1~13] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

09:15 〜 09:30

[20a-C101-2] 極端紫外光（EUV）リソグラフィ用のマスク作製

〇山本洋揮¹、古澤孝弘² (1.量研高崎、2.阪大産研)