15:30 〜 15:45 △ [20p-B103-8] 水素ガス熱処理が(Al,Sc)N 薄膜の強誘電特性へ及ぼす影響 〇(PC)岡本 一輝1、安岡 慎之介1、大田 怜佳1、舟窪 浩1、松井 尚子2、入澤 寿和2、恒川 孝二2 (1.東工大 物質理工学院、2.キャノンアネルバ株式会社)