Zhenwei Wang

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発表者・著者、共著者

2022年9月20日(火) 13:00 〜 19:00 B203 (B203)

一般セッション(口頭講演)
| 21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
| 21.1 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[20p-B203-1~22] 21.1 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

15:30 〜 15:45

▲ [20p-B203-10] Investigation of Capacitance–Voltage Characteristics of p-Si/n-Ga₂O₃ Heterostructures Fabricated by Surface-Activated Bonding

〇Zhenwei Wang¹、Daiki Takatsuki²、Jianbo Liang²、Takahiro Kitada^1,2、Naoteru Shigekawa²、Masataka Higashiwaki^1,2 (1.NICT、2.OMU)