三木隼之介

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発表者・著者、共著者

2022年9月20日(火) 13:00 〜 19:00 B203 (B203)

一般セッション(口頭講演)
| 21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
| 21.1 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[20p-B203-1~22] 21.1 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

13:15 〜 13:30

[20p-B203-2] PLD法による(Ir_xGa_1-x)₂O₃/α-Al₂O₃(0001)ヘテロ層の成長

〇(M2)三木隼之介¹、松田彪雅¹、竹田尚史¹、堀田育志¹、唐佳藝¹、佐々木公平²、倉又朗人²、三木一司¹ (1.兵庫県立大工、2.ノベルクリスタルテクノロジー)