16:00 〜 16:15 [20p-C101-10] 異なる基板温度で堆積したCat-CVD SiNx膜のファイヤースルー前後の膜特性評価 〇石川 凌一1、Huynh Tu Thi Cam1、大平 圭介1 (1.北陸先端大)