09:30 〜 09:45 △ [21a-M206-3] 酸化抑制プロセスによって形成した高品質4H-SiC(1120)/SiO2界面の低温特性評価 〇三上 杏太1、立木 馨大1、金子 光顕1、木本 恒暢1 (1.京大院工)