17:00 〜 17:15 △ [21p-B203-14] Mist CVD法により成長したα-In2O3薄膜のキャリア濃度とホール移動度の温度依存性 〇田口 義士1、尾沼 猛儀1、後藤 健2、金子 健太郎3、熊谷 義直2、本田 徹1、藤田 静雄3、山口 智広1 (1.工学院大、2.東京農工大、3.京都大)