17:30 〜 17:45 △ [21p-B203-16] ミストCVD法を用いたc面サファイア基板上のrh-IMO薄膜のエピタキシャル成長とその評価 〇石野 貴之1、島添 和樹1、鐘ケ江 一孝1、西中 浩之1、吉本 昌広1 (1.京都工繊大)