Han XU

発表者・著者、共著者

2022年9月21日(水) 13:15 〜 18:45 B203 (B203)

一般セッション(口頭講演)
| 21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
| 21.1 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[21p-B203-1~20] 21.1 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

17:45 〜 18:00

▼ [21p-B203-17] Fabrication of conductive anatase Ti_1−xNb_xO₂ thin films by mist chemical vapor deposition

〇(D)Han XU¹、Tomohito Sudare¹、Yumie Miura¹、Ryo Nakayama¹、Ryota Shimizu¹、Naoomi Yamada²、Kentaro Kaneko³、Taro Hitosugi^1,4 (1.Tokyo Tech.、2.Chubu Univ.、3.Kyoto Univ、4.Univ. Tokyo)

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