14:30 〜 14:45 △ [21p-B203-6] ミストCVD法によるGeドープβ-Ga2O3薄膜のホモエピタキシャル成長 〇小川 典真1、西中 浩之1、島添 和樹1、鐘ケ江 一孝1、吉本 昌広1 (1.京工繊大工)