Xufang Zhang

発表者・著者、共著者

2022年9月23日(金) 09:00 〜 11:30 A202 (A202)

一般セッション(口頭講演)
| 6 薄膜・表面
| 6.2 カーボン系薄膜

[23a-A202-1~10] 6.2 カーボン系薄膜

10:30 〜 10:45

▼ [23a-A202-7] Electrical characterization of Al₂O₃/diamond MOS interface under various wet-annealing times

〇Xufang Zhang¹、Tsubasa Matsumoto¹、Mitsuru Sometani²、Masahiko Ogura²、Toshiharu Makino²、Daisuke Takeuchi²、Christoph.E Nebel^1,3、Takao Inokuma¹、Satoshi Yamasaki¹、Norio Tokuda¹ (1.Kanazawa University、2.AIST、3.Diacara)