15:15 〜 15:30 [23p-C102-8] 高純度オゾンを用いたALDによるAl2O3膜の膜応力 〇萩原 崇之1、元田 総一郎1、亀田 直人1、中村 健2、野中 秀彦2 (1.明電NPI、2.産総研)