一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス
09:00 〜 09:15
〇(M2)二宮 雅輝1、藤平 哲也1、林 侑介1、酒井 朗1 (1.阪大基礎工)
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09:15 〜 09:30
〇中村 駿斗1、青木 裕雅1、甲斐 洋行1、木下 健太郎1 (1.東理大理)
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09:30 〜 09:45
〇山崎 智之1、高岡 遼生2、飯村 壮史1,3、金 正煥1、平松 秀典2、細野 秀雄1,3 (1.東工大元素、2.東工大フロンティア、3.NIMS)
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09:45 〜 10:00
〇(D)西岡 大貴1,2、土屋 敬志1,2、並木 航1、髙栁 真1,2、井村 将隆1、小出 康夫1、樋口 透2、寺部 一弥1 (1.物材機構、2.東理大理)
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10:00 〜 10:15
〇和田 友紀1,2、西岡 大貴1,2、並木 航1、土屋 敬志1,2、樋口 透2、寺部 一弥1 (1.物材機構、2.東理大理)
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10:30 〜 10:45
西河 秀平1、柏木 誠1、賈 軍軍2、小口 有希1、中村 明3、〇重里 有三1 (1.青学大理工、2.早大国際理工学セ、3.ミネベアミツミ（株）)
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10:45 〜 11:00
〇大舘 啓太1、柏木 誠1、小口 有希1、中村 明2、山本 晴香3、重里 有三1 (1.青学大 理工、2.ミネベアミツミ、3.日本電子)
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11:00 〜 11:15
〇遠藤 雅之1、曽根 大希1、柏木 誠1、賈 軍軍2、小口 有希1、中村 明3、重里 有三1 (1.青学大理工、2.早大国際理工、3.ミネベアミツミ（株）)
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11:15 〜 11:30
〇(DC)島添 和樹1、西中 浩之1、谷口 陽子1、鐘ケ江 一考1、吉本 昌広1 (1.京都工繊大電子)
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11:30 〜 11:45
〇(M1)松本 拓海1、川上 烈生1、柳谷 伸一郎1,2、新部 正人3、中野 由祟4、向井 孝志5 (1.徳島大理工、2.徳島大pLED、3.兵庫県立大、4.中部大、5.日亜化学)
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11:45 〜 12:00
〇(M1)桂 哲範1、和所 慶将1、金 敬鎬1、阿部 良夫1 (1.北見工業大学)
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