一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス
10:00 〜 10:15
〇(M1)野寺 歩夢1、森 峻1、永井 裕己1、相川 慎也1 (1.工学院大)
スケジュール
いいね！
)
10:15 〜 10:30
〇(M1)内田 涼太1、伊藤 皇聖1、野田 啓1 (1.慶應大理)
スケジュール
いいね！
)
10:30 〜 10:45
〇栗田 雄平1、大谷 直毅1 (1.同志社大理工)
スケジュール
いいね！
)
10:45 〜 11:00
〇水谷 文一1、水井 誠1、高橋 伸尚1、井上 万里2、生田目 俊秀2 (1.高純度化学研究所、2.NIMS)
スケジュール
いいね！
)
11:00 〜 11:15
〇(M1)芝原 拓哉1、李 陳毅展1、大谷 直毅1 (1.同志社大理工)
スケジュール
いいね！
)
11:15 〜 11:30
〇梶谷 亮介1、川江 健1 (1.金沢大理工)
スケジュール
いいね！
)
要旨・抄録、PDFの閲覧には参加者用アカウントでのログインが必要です。参加者ログイン後に閲覧・ダウンロードできます。
» 参加者用ログイン