The 83rd JSAP Autumn Meeting 2022

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Oral presentation

21 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices" » 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

[20a-B203-1~10] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

Tue. Sep 20, 2022 9:00 AM - 11:45 AM B203 (B203)

Takuto Soma(Tokyo Tech.)

11:15 AM - 11:30 AM

[20a-B203-9] Control of the transport properties of the InGaO3(ZnO)n single crystals by the O2 annealing effect

Naoki Kase1, Tadahito Inoue1, Yuto Uruma1, Yusuke Kawamura1, Fuyuki Kawakami1, Nobuaki Miyakawa1 (1.Tokyo Univ. Sci.)

Keywords:transparent semiconductor, single crystal

我々の研究グループでは9気圧下におけるOptical Floating Zone (OFZ)法によって、これまで困難であったInGaO3(ZnO)n (n = 1, 2, 3 以下IGZO-1nと表記)における大型単結晶の育成に成功した[1-4]。我々が育成した単結晶試料は酸素アニールのよってキャリア密度や移動度の制御が可能である。しかしアニール効果は試料形状などにも依存してしまうため詳細な酸素アニールによる輸送特性の変化は明らかに出来ていない。本研究では、正確に整形したInGaO3(ZnO)n (n = 1, 2, 3)単結晶試料を用いて、酸素アニールによる輸送特性の変化を調べた。