[20a-B204-1~11] 6.3 Oxide electronics

△ [20a-B204-11] Annealing Treatment on Tungsten Oxide Deposited by Sputtering

〇(M1)Tetsunori Katsura¹, Keisuke Washo¹, Kyung Ho Kim¹, Yoshio Abe¹ (1.Kitami Inst. Technol.)

Keywords:oxide, thin film

エレクトロミック（EC）特性を示す金属酸化物の省エネルギー素子への応用に向けた研究が活発に行われている。その中、酸化タングステン（WO₃）は還元着色EC材料として知られている。本研究では、代表的なドライプロセスである反応性スパッタリング法を用いて作製したWO₃薄膜の構造的・光学的特性への熱処理が及ぼす影響を評価し、薄膜の物性変化に伴うEC特性への影響を明らかにする。