[20p-A105-1~11] 8.1 プラズマ生成・診断

△ [20p-A105-2] プラズマCVD/ALD用860MHz表面波プラズマにおける特定粒子種の受動的モニタリング

〇新元 美晴¹、三瓶 明希夫¹、比村 治彦¹、二宮 貴哉¹、稲垣 秦一郎¹ (1.京工繊大)

キーワード：分光、プラズマプロセス、画像計測

プラズマプロセスにおいて、成膜におけるプラズマの均一性が求められている。そこで、プラズマに影響を与えず瞬時に三次元分布を取得する方法として、画像計測を行なった。一方向から撮影したプラズマの画像に対して再構成を行うことで、プラズマの三次元分布を取得できる。本研究では、混合ガスの中で、プロセスに寄与するイオン、ラジカルの三次元取得を目的とし、二種類のガスを用いて発生させたプラズマに対し測定を行なった。