[20p-A205-1~13] 6.6 プローブ顕微鏡

[20p-A205-2] 液中局所電位分布計測技術を用いたTi合金表面におけるナノスケールカソード反応解析

〇(M1)小西 沙和¹、近江 純一¹、谷口 大騎¹、山本 伸之介¹、平田 海斗¹、水島 大地¹、伊藤 元雄²、福間 剛士¹ (1.金大、2.JAMSTEC)

キーワード：腐食、原子間力顕微鏡(AFM)

Ti合金は高い比強度と耐食性から自動車や航空機の部品に使用されている。Ni添加で形成されるTi₂Niのカソード反応が耐食性向上に寄与すると考えられているが、ナノレベルの機構は未解明である。我々はオープンループ電位顕微鏡（液中電位分布計測技術）を開発してきた。本研究では、この技術を用いて純TiとTi₂Niの各領域におけるカソード反応性を直接ナノスケール観察し、その差から耐食性向上の詳細なメカニズムの解明を目指した。