[20p-A301-1~13] 1.5 Instrumentation, measurement and Metrology

[20p-A301-1] Anti-deposition solutions of the sapphire-based capacitance manometer for semiconductor manufacturing processes

〇Takuya Ishihara¹, Masaru Soeda¹ (1.Azbil Corp.)

Keywords:semiconductor manufacturing, capacitance manometer

各種半導体プロセス製造プロセスに用いられる隔膜真空計はそのプロセス中に発生するセンサダイアフラムへの堆積による零点ドリフトが実用上で最も大きな課題である。我々は今までサファイアを用いたMEMS技術により静電容量式の圧力センサを開発し、真空計として実用化してきた。その改良版としてダイアフラム表面に微細な構造体を形成し、堆積した膜を分断する対策を実施した結果について報告する。