2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[20p-B203-1~22] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2022年9月20日(火) 13:00 〜 19:00 B203 (B203)

尾沼 猛儀(工学院大)、西中 浩之(京都工繊大)

15:15 〜 15:30

[20p-B203-9] OCCC法によるβ-Ga2O3単結晶の育成と成長条件の検討

高橋 勲1,2、Kochurikhin Vladimir1、富田 健稔1、姚 永昭3、佐藤 功二3、石川 由加里3、菅原 孝昌2、庄子 育宏1、鎌田 圭1,2、柿本 浩一2、吉川 彰1,2 (1.C&A、2.東北大、3.ファインセラミックスセンター)

キーワード:酸化ガリウム、ルツボフリー結晶成長、結晶欠陥

本研究では、ルツボフリーの新規融液成長法Oxide Crystal growth from Cold Crucible (OCCC) methodを開発し、高品質なβ-Ga2O3インゴットの作製を目指し成長条件の検討を行い、結晶性との関係を調べた。