2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[20p-B204-1~13] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2022年9月20日(火) 13:30 〜 17:00 B204 (B204)

神吉 輝夫(阪大)

16:45 〜 17:00

[20p-B204-13] 真空紫外光照射によるエピタキシャル酸化コバルト薄膜の結晶相変化

金子 健太1、庄司 拓貴1、喬 宇馳1、大賀 友瑛1、金子 智2,1、吉本 護1、松田 晃史1 (1.東工大物質理工、2.神奈川産技総研)

キーワード:酸化コバルト、真空紫外光、エピタキシャル薄膜

ドーパントフリーエピタキシャル酸化コバルト薄膜について、Xe2エキシマランプを用いた真空紫外(VUV)光照射が薄膜構造および物性に与える影響について検討した。エピタキシャル酸化コバルト薄膜は、CoO焼結体ターゲットを用いたPLD法によって、原子ステップα-Al2O3(0001)基板上に堆積した。得られた薄膜に対してVUV光照射を大気中で行い、顕著な結晶相変化および相変化に伴う物性変化が確認された。講演では、詳細な構造解析、物性評価について報告する。