2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.6 IV族系化合物(SiC)

[20p-C306-1~9] 15.6 IV族系化合物(SiC)

2022年9月20日(火) 13:30 〜 15:45 C306 (C306)

浅田 聡志(電中研)

14:45 〜 15:00

[20p-C306-6] 酸化処理を施した4H-SiCの表面再結合速度

〇(M2)小川 斐士1、韓 磊1、加藤 智久2、加藤 正史1 (1.名工大、2.産総研)

キーワード:シリコンカーバイド、半導体

キャリアライフタイムτの値はSiCバイポーラデバイスにおいて、デバイス性能を左右する重要なパラメータである。また、τの制限因子の中には表面再結合が存在しており、定量的な値を得ることがデバイス設計に不可欠である。本研究では、酸化処理およびpost-oxidation annealing (POA)を施した4H-SiCに対して、表面再結合速度Sの解析を行った。