The 83rd JSAP Autumn Meeting 2022

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.3 III-V-group epitaxial crystals, Fundamentals of epitaxy

[21a-A105-1~9] 15.3 III-V-group epitaxial crystals, Fundamentals of epitaxy

Wed. Sep 21, 2022 9:00 AM - 11:30 AM A105 (A105)

Kouichi Akahane(NICT), Jiro Nishinaga(AIST)

9:00 AM - 9:15 AM

[21a-A105-1] Effect of Sb Beam Equivalent Pressure on Crystal Quality of AlInSb Thin Film

Ryuto Machida1, Kouichi Akahane1, Issei Watanabe1, Shinsuke Hara1, Akifumi Kasamatsu1 (1.NICT)

Keywords:antimonide-based compound semiconductors, heteroepitaxial growth, 3D nucleation

本研究では,Sbビーム等価圧力(BEP)がGaAs上AlInSb薄膜結晶の分子線エピタキシー成長に与える影響をX線回折スペクトル半値幅との関係から調査し,その結晶の高品質化について検討した。結果,Sb BEPの増加によってAlおよびIn原子の表面マイグレーション長が短くなることで成長初期のAlInSb 3次元核が小型・高密度になり,薄膜結晶性が向上したことを示唆していた。