[21a-A205-1~10] 3.14 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス（旧3.15）

△ [21a-A205-9] CAM-ESに基づく小型低損失2×2カプラの設計

〇(D)宮武 悠人¹、トープラサートポン カシディット¹、高木 信一¹、竹中 充¹ (1.東大院工)

キーワード：シリコンフォトニクス、2x2カプラ、CMA-ES

近年、シリコンフォトニクスに基づくプログラマブル光集積回路の研究が盛んに行われている。最も広範に用いられているClements型の光集積回路の大規模化のためには、構成要素である2×2カプラの性能向上が必要になる。本研究ではCMA-ESというアルゴリズムに基づく設計を2×2カプラの設計に適用することにより、小型かつ低損失で、高い作製誤差耐性と温度安定性を持つ素子の設計に成功した。